Пенка для лица Baking Powder Pore & BB Deep Cleansing Foam

Пенка для лица Baking Powder Pore & BB Deep Cleansing Foam

670,00 ₽

Купить в 1 клик
Артикул: 005012 Категории: ,

Описание

Пенка для лица, новая версия уже известного Baking Powder Cleansing Foam с усиленным эффектом. Проникая в самую глубину пор, эффективно очищает их, полностью удаляет остатки макияжа, ББ крема и различные загрязнения, оставляет после применения ощущение свежести. Сода как активное вещество в составе пенки Etude House помогает устранить черные точки и сузить поры. Baking Powder BB Deep Cleansing Foam можно использовать для ежедневного ухода за пористой кожей лица.

Пенка эффективно удаляет все виды загрязнений, кожный жир, пот являющиеся причиной появления прыщей, угрей и других кожных проблем. Средство образует устойчивую пену со множеством мелких воздушных пузырьков которые мягко и нежно массируют кожу, стимулируют приток крови тем самым улучшая снабжение кожи кислородом благодаря чему она буквально молодеет на глазах, становиться более мягкой, нежной подтянутой.

Содовые компоненты, нежно отшелушивают ороговелости не задевая здоровой кожи, проникая в поры, полностью очищают их от жира и грязи, сужают, делают незаметными. Кожа лица становиться гладкой. При ежедневном очищении с помощью пенки не возникает таких проблем как угревая сыпь и прыщи.

Детали

Вес 150 g
Объем

Производитель

Тип кожи

Эффект

, ,

Тип средства для лица

Способ применения

Ополоснуть лицо теплой водой, затем взять 2-3 капли пенки и распределить равномерно по лицу круговыми массирующими движениями. Смывать средство теплой водой, остатки макияжа или ББ крема будут полностью удалены, останется приятное ощущение чистоты и свежести.

Состав

Содовые компоненты, нежно отшелушивают ороговелости не задевая здоровой кожи, проникая в поры, полностью очищают их от жира и грязи, сужают, делают незаметными. 

Обзоры

Отзывов пока нет.

Будьте первым, кто оставил отзыв на “Пенка для лица Baking Powder Pore & BB Deep Cleansing Foam”

Ваш e-mail не будет опубликован. Обязательные поля помечены *